荷蘭擴限光刻機出口 中方不滿

荷蘭上周五（6日）宣布，在2023年半導體出口管制措施的基礎上，進一步擴大對光刻機的管制範圍。中國商務部表示，中國對此表示不滿，荷蘭應從維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局出發，尊重市場原則和契約精神。

倡尊重市場原則和契約精神

商務部發言人稱，荷蘭應避免有關措施阻礙兩國半導體行業正常合作和發展，不濫用出口管制措施，切實維護中荷企業和雙方共同利益，維護全球半導體產業鏈供應鏈穩定。近年來美國為維護自身全球霸權，不斷泛化國家安全概念，脅迫個別國家加嚴半導體及設備出口管制措施，嚴重威脅全球半導體產業鏈供應鏈穩定，嚴重損害相關國家和企業正當權益，中國對此堅決反對。

荷蘭政府上周五說，將擴大對部分光刻機生產商艾司摩爾（ASML）光刻工具的出口許可要求，從而實際上從美國手中收回對這些工具的管制權，並使兩國的政策保持一致。

在美國壓力下，荷蘭政府從未允許ASML向中國客戶出售其最好的極紫外光刻（EUV）等光刻工具，並在2023年9月開始要求出口NXT:2000系列和更先進的DUV工具必須獲得許可證。美國此前曾聲稱有權管制這些工具，這是其限制中國晶片製造商獲得先進技術以減緩中國技術和軍事進步的行動的一部分。